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时间:2024年04月08日 来源:

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    本发明涉及半导体制造技术领域,更具体地说,涉及一种抛光减薄装置和抛光减薄方法。背景技术:采用iii-v族化合物制作的半导体器件和超高速数字/数模混合电路等凭借其优良的频率特性,已经成为通讯、雷达、制导、空间防御、高速智能化武器及电子对抗等现代化装备的部件之一。在众多的iii-v族化合物中,inp(磷化铟)化合物具有独特的优势,这主要得益于其优良的材料特性,例如,inp和ingaas(铟镓砷)之间的晶格失配很小,以及电子饱和速率很高等,所以不论是hemt(highelectronmobilitytransistor,高电子迁移率晶体管)结构还是hbt(heterojunctionbipolartransistor,异质结双极晶体管)结构,都具有非常优异的高频、大功率性能。但是,inp材料的物理性能却很差,非常易碎,很小的碰撞或振动都会导致晶圆碎裂而前功尽弃,因此,inp材料的制造加工面临着很多工艺上的难题。尤其是在超高频率、大功率的inp基rfic(射频集成电路)的制造工艺中,如何在对inp基晶圆进行减薄抛光时,减小或避免inp基晶圆的损伤是本领域技术人员亟待解决的问题之一。技术实现要素:有鉴于此,本发明提供了一种抛光减薄装置和抛光减薄方法,以减小或避免inp基晶圆的减薄抛光损伤。为实现上述目的。好的减薄用清洗剂公司的标准是什么。南通什么是减薄用清洗剂溶剂

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    且所述限位块438和所述第二限位块439均可在所述限位孔437内移动,通过所述连接部433的限位效果,避免所述支撑条431和所述第二支撑条432在磁力作用下产生脱离,从而使所述支撑条431和所述第二支撑条432在磁力和所述连接部433的限位力作用下保持平衡。一般的,所述位块438和所述第二限位块439均设置为圆柱型,从而便于所述限位块438和所述第二限位块439在所述限位孔437内的移动。当放置于所述底支撑件43上的玻璃受到冲击或振动时,所述支撑条431可相对于所述第二支撑条432作水平方向的偏移移动,或所述限位块438和所述第二限位块439均在所述限位孔437内移动,使所述支撑条431可相对于所述第二支撑条432作竖直方向的移动,从而可实现对各个方向上冲击力或振动的吸收缓冲效果,提高玻璃的安全性。较佳的,所述限位块438和所述第二限位块439可设置为螺钉,所述限位孔437宽度配合所述螺钉的螺纹直径设置,在所述支撑条431和所述第二支撑条432上设置螺纹孔,通过将所述限位块438和所述第二限位块439与所述螺纹孔螺纹连接,从而实现所述限位块438和所述第二限位块439在所述支撑条431和所述第二支撑条432上的固定。通过将所述限位块438和所述第二限位块439设置为螺钉。广东市面上哪家减薄用清洗剂供应

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