临沂碱性抛光液介绍

化学机械抛光液 

1、化学机械抛光液概念  化学机械抛光液是在利用化学机械抛光技术对半导体材料进行加工过程中的一种研磨液体，由于抛光液是CMP的关键要素之一，它的性能直接影响抛 光后表面的质量，因此它也成为半导体制造中的重要的、必不缺少的辅助材料。  

2、化学机械抛光液的组成  化学机械抛光液的组成一般包括一般由超细固体粒子研磨剂（如纳米SiO2、Al2O3粒子等）、表面活性剂、稳定剂、氧化剂等。固体粒子提供研磨作用,化学氧化剂提供腐蚀溶解作用，由于SiO2粒子去除率比较高,得到的表面质量比较好，因此在硅片抛光加工中主要采用SiO2抛光液，  

3、化学机械抛光液的分类  抛光工艺中有粗抛光和精抛光之分，故有粗抛光液和精抛光液品种之分。  

4、CMP过程中对抛光液性能的要求  抛光液的浓度、磨粒的种类、大小、形状及浓度、抛光液的粘度、pH值、流速、流动途径对去除速度都有影响。 氧化铝抛光液主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。临沂碱性抛光液介绍

1. LED行业  目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石，在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度极高，普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用“软磨硬”的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展，聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。 

2.半导体行业  CMP技术还***的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展，对抛光技术提出了新的要求，传统的抛光技术（如：基于淀积技术的选择淀积、溅射等）虽然也可以提供“光滑”的表面，但却都是局部平面化技术，不能做到全局平面化，而化学机械抛光技术解决了这个问题，它是目前***的可以在整个硅圆晶片上***平坦化的工艺技术。 广州国产抛光液厂商本公司销售的纳米抛光液应用范围：汽车表面漆层、宇航飞机机翼前缘。

近年来跟着LED工业的开展、宝石衬底需求量的增大，氧化铝抛光液凭仗较高的抛光速率在蓝宝石抛光液中有很好的运用远景。但是氧化铝抛光液在抛光进程中存在涣散安稳性差、抛光进程简单呈现凝聚现象使抛光面呈现划痕的问题。有许多研讨者对进步氧化铝抛光液安稳性进行了研讨。

 抛光液对的影响。化学机械抛光液中的化学成分，如氨、酸等0成分对和人体的很大。为此，在进一步研讨抛光液制备工艺的一起，抛光液的循环利用技术也应进一步完善，做到经济开展与相协调。

  在化学机械抛光中运用的氧化铝磨料，常选用硬度大、性能安稳、不溶于水、不溶于酸碱的纳米α-Al2O3。作为化学机械抛光磨料，氧化铝颗粒的巨细、形状、粒度散布都影响抛光效果。在LED行业，CMP抛光液中常选用粒径50∼200 nm、粒径散布均匀的纳米α-Al2O3。近年来对α-Al2O3磨料颗粒的研讨主要会集在纳米级球形颗粒的制备上。常见制备办法有以下几种。

  固相法。其间的硫酸铝铵热解法、改进拜尔法、法等是比较老练的制备办法。固相法制备超细粉体的流程简单，无需溶剂，产率较高，但生成的粉体易发作聚会，且粒度不易操控，难以得到散布均匀的小粒径的高质量纳米粉体。

  气相法。主要有化学气相沉淀法，经过加热等方式改动物质形态，在气体状态下发作反响，之后在冷却进程中形成颗粒。气相法的长处是反响条件能够操控、产品易精制，颗粒涣散性好、粒径小、散布窄，但产出率低，粉末难搜集。

  液相法。常见的有水解、喷雾干燥、溶胶凝胶、乳化等几种办法。液相法的长处体现在：可准确操控产品的化学组成，纳米粒子的外表活性高，形状简单操控涣散均匀，生产成本比较低，简单实现工业化生产。

本公司的纳米抛光液适合水晶玻璃抛光，单晶硅片抛光，油漆表面抛光。

二氧化硅抛光液用特选的纳米级SiO2作为磨料。具有***、无腐蚀、不易变质等特点。在抛光中根据客户产品的需要可以优化不同配比，使加工出来的工件表面光亮美观、色泽鲜艳，防止工件的腐蚀，提高工件表面的亮泽，达到比较好使用效果。产品分别依客户和产品对应**名称。  

 应用领域：  

1、金属类材料：如不锈钢、铝合金、锌件抛光 

2、LED蓝宝石衬底，晶体、宝石件抛光 

3、光学镜片、光学玻璃、陶瓷、石英件抛光 

4、磁头、硬盘件抛光 

5、光纤以及光伏抛光 本公司销售的纳米抛光液应用范围：涂料、橡胶、塑料耐磨增强材料、高级耐水材料。临沂碱性抛光液介绍

纳米 抛光液能达到超精密的抛光效果，分散稳定性，长时间不沉淀，不团聚。临沂碱性抛光液介绍

抛光液现在市场上运用**为***的几种磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。其间，SiO2抛光液选择性、涣散性好，机械磨损性能较好，化学性质生动，而且后清洗进程处理较简单；缺点为在抛光进程中易发作凝胶，对硬底资料抛光速率低。CeO2抛光液的长处是抛光速率高，资料去除速率高；缺点是黏度大、易划伤，且选择性欠好，后续清洗困难。Al2O3抛光液的缺点在于选择性低、涣散安稳性欠好、易聚会等，但对于硬底资料蓝宝石衬底等却具有***的去除速率。临沂碱性抛光液介绍

苏州豪麦瑞材料科技有限公司创建于2014-04-24，注册资金 50-100万元，是一家专注苏州豪麦瑞材料科技有限公司（Homray Material Company）成立于2014年，是由一群在半导体行业从业多年的专业团队所组成，专注于半导体技术和资源的发展与整合，现以进口碳化硅晶圆，供应切割、研磨及抛光等相关制程的材料与加工设备，氧化铝研磨球，氧化锆研磨球，陶瓷研磨球，陶瓷精加工，抛光液。的公司。目前我公司在职员工达到5~10人人，是一个有活力有能力有创新精神的高效团队。公司业务范围主要包括：[ "陶瓷研磨球", "碳化硅", "陶瓷精加工", "抛光液" ]等。公司奉行顾客至上、质量为首、的经营宗旨，深受客户好评。目前公司已经成为[ "陶瓷研磨球", "碳化硅", "陶瓷精加工", "抛光液" ]的**企业，正积蓄着更大的能量，向更广阔的空间、更***的领域拓展。