基板抛光液厂家
氧化铝抛光液适用于金相样品的**终抛光,纳米级的悬浮液,如同牛奶般丝滑有质感,静止一定时间后,溶剂和氧化铝颗粒会自然分层,上层呈半透明水样,氧化铝颗粒沉积在下层,使用前需要摇匀。摇匀后的氧化铝抛光液就跟牛奶似的了。做铸铁、钢、不锈钢、铜、聚合物、矿物质、微电子、贵金属等金相样品制备的实验室一般都会常备氧化铝抛光液。
氧化铝抛光液作为**终抛光液,是为了去除样品表面肉眼不可见的表面变形层。尤其是使用高倍物镜、偏振光、微分干涉或EBSD 技术,来检测、评定样品时,去除这种微小变形是必需的。 本公司销售的纳米抛光液应用范围:透明陶瓷:高压钠灯灯管、EP-ROM窗口。基板抛光液厂家
依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等,对硅单晶片化学机械抛光(CMP)机理、动力学控制过程和影响因素研究标明,化学机械抛光是一个复杂的多相反应,它存在着两个动力学过程:
(1)抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。
(2)抛光表面反应物脱离硅单晶表面,即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。
硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程,要获得质量好的抛光片,必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用,则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用,则表面产生高损伤层。 东莞物理抛光液品牌单晶金刚石 抛光液具有良好的切削力,适用于超硬材料的研磨 抛光。
依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等,对硅单晶片化学机械抛光(CMP)机理、动力学控制过程和影响因素研究标明,化学机械抛光是一个复杂的多相反应,它存在着两个动力学过程: (1)抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。 (2)抛光表面反应物脱离硅单晶表面,即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。 硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程,要获得质量好的抛光片,必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用,则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用,则表面产生高损伤层。
氧化铈抛光液
1、产品名称 稀土抛光液
2、产品型号 hnys-ceria-1
3、用途 用于手机玻璃、精密光学玻璃抛光
4、技术指标
化学成分 含量
稀土抛光粉 30-40%
去离子水 60-70%
其他成分 ≤3%
化学或物理指标 数据
D50 0.4-0.6µm D90 ≤1.5µm
比重 ≥1.20g/cm3
pH值 8.0-9.5
颜色 白色
备注:以上参数可根据用户要求适当调整。
5、包装规格 20公斤/桶、50公斤/桶 6、注意事项 使用前请摇匀或搅拌均匀;抛光前可加水稀释1-2倍后再使用,具体稀释比例根据用户现场工艺与设备自行确定。 碳化硅抛光液主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。
氧化硅抛光液经过严格的粒径控制和专业的加工工艺。 该产品抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。
产品特点:
1.分散性好、不结晶 。
2.粒径分布***:5-100nm。
3.高纯度(Cu2+含量小于50 ppb),有效减小对电子类产品的沾污。
4.经特殊工艺合成的化学机械抛光液,纳米颗粒呈球形,单分散,大小均匀,粒径分布窄,可获得高质量的抛光精度。
5.适合与各种抛光垫、合成材料配合抛光使用。
使用方法:
1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。
2.稀释后,粗抛时调节PH至11左右,精抛时调节PH至9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。
3.循环抛光可以用原液。
氧化铈抛光液用于高精密光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。基板抛光液厂家
本公司销售的纳米抛光液应用范围:气相沉积材料、荧光材料、特种玻璃、复合材料和树脂材料。基板抛光液厂家
金刚石抛光液(多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液(即CMP抛光液)、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂,具有良好的去油污,防锈,清洗和增光性能,并能使金属制品超过原有的光泽。本产品性能稳定、***,对环境无污染等作用,光液使用方法:包括棘轮扳手、开口扳手,批咀、套筒扳手,六角扳手,螺丝刀等,铅锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后,再使用抛光剂配合振动研磨光饰机,滚桶式研磨光式机进行抛光;1抛光剂投放量为(根据不同产品的大小,光饰机的大小和各公司的产品光亮度要求进行适当配置),2:抛光时间:根据产品的状态来定。3、抛光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。基板抛光液厂家
苏州豪麦瑞材料科技有限公司成立于2014-04-24,注册资本:50-100万元。该公司贸易型的公司。公司是一家私营有限责任公司企业,以诚信务实的创业精神、质量高速的管理团队、精悍的职工队伍,努力为广大用户提供***的产品。公司业务涵盖[ "陶瓷研磨球", "碳化硅", "陶瓷精加工", "抛光液" ],价格合理,品质有保证,深受广大客户的欢迎。豪麦瑞材料科技将以真诚的服务、创新的理念、***的产品,为彼此赢得全新的未来!
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