四川碱性抛光液价格
纳米氧化铝颗粒在极性的水溶液中,氧化铝颗粒因为受静电力等作用发作聚会,简单呈现絮凝分层等现象,抛光液的涣散性、安稳性。由磨料颗粒的聚会现象发作的大颗粒胶团,是化学机械抛光进程中衬底外表呈现划痕的主要原因。氧化铝颗粒的粒径巨细及散布、Zeta电位,以及抛光液添加安稳剂、涣散剂的品种和质量对抛光液安稳性有较大的影响。
对纳米氧化铝外表改性可进步颗粒外表规矩度,减少抛光划痕和凹坑,一起进步氧化铝磨料涣散度和抛光液安稳性。常见的处理办法为利用偶联剂、有机物、无机物等在硬度较高的氧化铝粒子外表包覆一层较软的物质以减少抛光划痕和凹坑等缺点,从而改进氧化铝抛光液的安稳性和涣散性,一起能有用进步抛光磨料的耐磨性能。此外,还能够经过改动氧化铝颗粒Zeta电位来进步抛光液的安稳性。
磨料粒子的涣散问题。现在,国内外常用超声波、机械拌和、外表处理等机械化学办法对纳米磨料粒子进行涣散,但是往往达不到效果,因而,纳米磨料粒子的涣散安稳性需要进一步的研讨。
氧化铝抛光液朴实机械抛光可使样品外表平整,但是却无法确保铜不发生,因而适合涂层丈量和边界层分析。四川碱性抛光液价格
抛光液的使用说明
一、抛光液特性 抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂,具有良好的去油污,防锈,清洗和增光性能,并能使金属制品超过原有的光泽。本产品性能稳定、***,对环境无污染等作用
二、抛光液用途 抛光液适用于铅锡合金,铜,锌合金,不锈钢,铝合金,铁等金属零部件的抛光,光亮度可达12级,可取代多种进口抛光剂和抛光粉。
三:抛光液技术指标 抛光液项目指标测试方式: PH值 5.5—6.5 ***PH值试纸 外观 黄色粘稠液体 目测 粘度 500—100cps 粘度器测定 重庆碱性抛光液性能本公司销售的纳米抛光液应用范围:汽车表面漆层、宇航飞机机翼前缘。
抛光液锗抛光液集成电路多次铜布线抛光液集成电路阻挡层抛光液应用,在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度极高,普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后,表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用"软磨硬"的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展,聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。2.半导体行业CMP技术还***的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展,对抛光技术提出了新的要求,传统的抛光技术(如:基于淀积技术的选择淀积、溅射等)虽然也可以提供"光滑"的表面,但却都是局部平面化技术,不能做到全局平面化,而化学机械抛光技术解决了这个问题,它是目前***的可以在整个硅圆晶片上***平坦化的工艺技术。
化学机械抛光液
1、化学机械抛光液概念 化学机械抛光液是在利用化学机械抛光技术对半导体材料进行加工过程中的一种研磨液体,由于抛光液是CMP的关键要素之一,它的性能直接影响抛 光后表面的质量,因此它也成为半导体制造中的重要的、必不缺少的辅助材料。
2、化学机械抛光液的组成 化学机械抛光液的组成一般包括一般由超细固体粒子研磨剂(如纳米SiO2、Al2O3粒子等)、表面活性剂、稳定剂、氧化剂等。固体粒子提供研磨作用,化学氧化剂提供腐蚀溶解作用,由于SiO2粒子去除率比较高,得到的表面质量比较好,因此在硅片抛光加工中主要采用SiO2抛光液,
3、化学机械抛光液的分类 抛光工艺中有粗抛光和精抛光之分,故有粗抛光液和精抛光液品种之分。
4、CMP过程中对抛光液性能的要求 抛光液的浓度、磨粒的种类、大小、形状及浓度、抛光液的粘度、pH值、流速、流动途径对去除速度都有影响。 氧化硅抛光液(CMP抛光液)是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。
氧化铝抛光液含有溶胶氧化铝,可经过朴实的机械抛光来***地去除资料,达到优异的外表处理效果。而非结晶***抛光液,具有弱碱性,经过化学-机械的抛光方法与资料外表形成反应层,柔软的***去除反应层,可得到高质量的外表。 因而,不同类型的终究抛光液采用不同的抛光机制。不同的资料类型决议着是挑选氧化铝抛光液仍是挑选氧化硅抛光液。
用氧化铝抛光液朴实机械抛光可使样品外表平整,但是却无法确保铜不发生,因而氧化铝抛光液**适合涂层丈量和边界层分析。用氧化硅抛光液,经过化学-机械抛光可在焊料上发生腐蚀,还有轻微的抛光浮凸,但却不会损伤样品,因而氧化硅抛光液**适合铜的微观**分析和EBSD了。
氧化硅抛光液用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。四川碱性抛光液价格
本公司销售的氧化硅抛光液粒径分布***:5-100nm。四川碱性抛光液价格
金刚石研磨液包括单晶、多晶和纳米。 该产品适合硬质材料的抛光
产品特点:
1.单晶金刚石抛光液具有良好的切削力,适用于超硬材料的研磨抛光。
2.多晶金刚石
抛光液有良好的韧性,在研磨抛光过程中能够保持高磨削力的同时不易产 生划伤。适用于光学晶体、陶瓷、超硬合金等各种硬质材料的研磨和抛光。
3.纳米抛光液能达到超精密的抛光效果,分散稳定性,长时间不沉淀,不团聚。***用 于硬质材料的超精密抛光过程,可使被抛表面粗糙度低于0.2nm。
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