苏州碱性抛光液价格

时间:2020年11月08日 来源:

纳米级抛光液制备方法:本发明属于研磨料技术领域,由纳米级金刚石粉、非离子型分散稳定剂、抗静电剂、净洗剂、和C9以下轻质白油或石脑油组成,其制备方法为将纳米金刚石机械研磨成粉体,烘干;加入分散稳定剂,加热混合使粉体润湿;加入白油或石脑油,抗静电剂,净洗剂,以及适量pH值调节剂,并不断搅拌,将混合物分散成悬浮液。本发明将产品的表面抛光质量提高到亚纳米量级,以适应于计算机磁头、光学器件和陶瓷等高精度表面研磨和抛光之用。氧化铝抛光液凭仗较高的抛光速率在蓝宝石抛光液中有很好的运用远景。苏州碱性抛光液价格

纳米抛光液应用范围: 

 1、 透明陶瓷:高压钠灯灯管、EP-ROM窗口。

 2、 化妆品填料。  

 3、 单晶、红宝石、蓝宝石、白宝石、钇铝石榴石。  

 4、 **度氧化铝陶瓷、C基板、封装材料、***、高纯坩埚、绕线轴、轰击靶、炉管。      

 5、 精密抛光材料、玻璃制品、金属制品、半导体材料、塑料、磁带、打磨带。 

 6、 涂料、橡胶、塑料耐磨增强材料、高级耐水材料。  

 7、 气相沉积材料、荧光材料、特种玻璃、复合材料和树脂材料。 

 8、 催化剂、催化载体、分析试剂。  

 9、 汽车表面漆层、宇航飞机机翼前缘。 苏州基板抛光液加工本公司销售的纳米抛光液应用范围:气相沉积材料、荧光材料、特种玻璃、复合材料和树脂材料。

纳米抛光液  

本公司有多种纳米抛光液,有纳米氧化铝抛光液、纳米氧化铈抛光液,纳米氧化锆抛光液、纳米氧化镁抛光液、纳米氧化钛抛光液、纳米氧化硅抛光液等。  

本系列纳米抛光液晶相稳定、硬度有高有低、适合客户各种软硬材料抛光,被广泛应用于催化剂,精密抛光,化工助剂,电子陶瓷,结构陶瓷,紫外线收剂,电池材料等领域。我公司采用先进的分散技术将纳米氧化物粉体超级分散, 形成高度分散化、均匀化和稳定化的纳米氧化物浆料。具有更高的活性、易加入等特性,方便顾客使用。 主要用途:适合各种宝石研磨抛光、电子磁性材料的研磨抛光、普通玻璃抛光,工艺玻璃抛光,水晶玻璃抛光,单晶硅片抛光,油漆表面抛光,手机外壳抛光,汽车表面抛光,高级不锈钢外壳抛光,高级首饰品抛光以及做抛光蜡原料等。

蓝宝石研磨液  

蓝宝石研磨液(又称为蓝宝石抛光液)是用于在蓝宝石衬底的研磨和减薄的研磨液。  蓝宝石研磨液由质量聚晶金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成。    

蓝宝石研磨液利用聚晶金刚石的特性,在研磨抛光过程中保持高切削效率的同时不易对工件产生划伤。可以应用在蓝宝石衬底的研磨和减薄、光学晶体、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷和合金、磁头、硬盘、芯片等领域的研磨和抛光。

蓝宝石研磨液在蓝宝石衬底方面的应用:  

 1. 外延片生产前衬底的双面研磨:多用蓝宝石研磨液研磨一道或多道,根据**终蓝宝石衬底研磨要求用6um、3um、1um不等。 

 2. LED芯片背面减薄   为解决蓝宝石的散热问题,需要将蓝宝石衬底的厚度减薄,从450nm左右减至100nm左右。主要有两步:先在横向减薄机上,用50-70um的砂轮研磨磨去300um左右的厚度;再用抛光机(秀和、NTS、WEC等)针对不同的研磨盘(锡/铜盘),采用合适的蓝宝石研磨液(水/油性)对芯片背面抛光,从150nm减至100nm左右。 多晶金刚石 抛光液有良好的韧性,在研磨抛光过程中能够保持高磨削力的同时不易产 生划伤。

氧化铝抛光液含有溶胶氧化铝,可经过朴实的机械抛光来***地去除资料,达到优异的外表处理效果。而非结晶***抛光液,具有弱碱性,经过化学-机械的抛光方法与资料外表形成反应层,柔软的***去除反应层,可得到高质量的外表。 因而,不同类型的终究抛光液采用不同的抛光机制。不同的资料类型决议着是挑选氧化铝抛光液仍是挑选氧化硅抛光液。

用氧化铝抛光液朴实机械抛光可使样品外表平整,但是却无法确保铜不发生,因而氧化铝抛光液**适合涂层丈量和边界层分析。用氧化硅抛光液,经过化学-机械抛光可在焊料上发生腐蚀,还有轻微的抛光浮凸,但却不会损伤样品,因而氧化硅抛光液**适合铜的微观**分析和EBSD了。


Al2O3抛光液一次完成蓝宝石、碳化硅晶片的研磨和抛光,**进步抛光功率。苏州碱性抛光液价格

氧化铝抛光液是以超细氧化铝为磨料的抛光液,主要成分是微米或亚微米级的磨料。苏州碱性抛光液价格

抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类:金刚石抛光液(多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液(即CMP抛光液)、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。 

多晶金刚石抛光液

多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分,配合**散性配方,可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。

应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。

氧化硅抛光液

氧化硅抛光液是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。

用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。

氧化铈抛光液

氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。

适用于高精密光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。

氧化铝和碳化硅抛光液

是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液,主要成分是微米或亚微米级的磨料。

用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。 苏州碱性抛光液价格

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