河南中性抛光液介绍

时间:2020年11月27日 来源:

多晶金刚石抛光液  

多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分,配合**散性配方,可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。

主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。  

氧化硅抛光液(CMP抛光液)  

CMP抛光液是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。 ***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。   

氧化铈抛光液  

氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。  适用于高精密光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。  

氧化铝和碳化硅抛光液  

是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液,主要成分是微米或亚微米级的磨料。 主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。 氧化硅抛光液(CMP抛光液)是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。河南中性抛光液介绍

玻璃抛光液

一、玻璃抛光液技术参数  

1、玻璃抛光液中心粒径 d50:1um-1.5um  

2、玻璃抛光液PH 值:7  

二、玻璃抛光液适用范围:  玻璃抛光液***适用于精密光学器件、硬盘基片、液晶屏幕显示器等,高精密度光学玻璃抛光.光学镜头、光纤连接器、微晶玻璃基板、晶体表面等方面的精密抛光。  

三、玻璃抛光液使用方法:  原液使用、添加到储液槽,建议抛光浓度:温度(约100~150克/升:20~35℃) 四、玻璃抛光液保质期:  常温储存(25 ℃),两年。  

五、玻璃抛光液包装规格:  25KG/桶。  

六、玻璃抛光液注意事项:  

1、此说明所述技术性能及应用方法*供专业人士参考,而并非对使用效果之承诺.凡新使用产品及改变工艺,须先做严格的可行性测试,以求比较好使用效果;  

2、不用时请将容器封好,避免儿童接触;不慎溅入眼内,请用清水冲洗或到医院检查。 浙江中性抛光液厂家多晶金刚石 抛光液适用于光学晶体、陶瓷、超硬合金等各种硬质材料的研磨和 抛光。

复合抛光液对硅衬底去除速率的影响

目前,IC产品用到的衬底材料大都是硅材料,绝大多数的的半导体IC器件以高纯质量硅基作为衬底。但是随着IC产品集成度进一步提高,对硅单晶衬底片表层质量与表面平整度要求越趋严格,即要求硅衬底抛光片或外延片表面高平整度、高光洁度、表面无损伤。化学机械抛光是***能实现如此高精度的方法。抛光液pH值,组分等性质对硅衬底抛光速率有着***的影响。复合抛光液是不同的两种以上的抛光液磨料组合而成的,性能良好的混合磨料之间可以形成优势互补,具有单一磨料不具备的新特点。充分发挥其特性,可以获得抗腐蚀性、耐久性和稳定性更好的抛光液。本文通过SiO2磨料和CeO2磨料的混合,确定出抛光速率较高的混合配比和磨料体积分数。

依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等,对硅单晶片化学机械抛光(CMP)机理、动力学控制过程和影响因素研究标明,化学机械抛光是一个复杂的多相反应,它存在着两个动力学过程:

(1)抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。

(2)抛光表面反应物脱离硅单晶表面,即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。

硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程,要获得质量好的抛光片,必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用,则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用,则表面产生高损伤层。 抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂。

氧化铝抛光液适用于金相样品的**终抛光,纳米级的悬浮液,如同牛奶般丝滑有质感,静止一定时间后,溶剂和氧化铝颗粒会自然分层,上层呈半透明水样,氧化铝颗粒沉积在下层,使用前需要摇匀。摇匀后的氧化铝抛光液就跟牛奶似的了。做铸铁、钢、不锈钢、铜、聚合物、矿物质、微电子、贵金属等金相样品制备的实验室一般都会常备氧化铝抛光液。

氧化铝抛光液作为**终抛光液,是为了去除样品表面肉眼不可见的表面变形层。尤其是使用高倍物镜、偏振光、微分干涉或EBSD 技术,来检测、评定样品时,去除这种微小变形是必需的。 单晶金刚石 抛光液具有良好的切削力,适用于超硬材料的研磨 抛光。上海中性抛光液

本公司销售的纳米抛光液应用范围:涂料、橡胶、塑料耐磨增强材料、高级耐水材料。河南中性抛光液介绍

钢铁电化学抛光所有的溶液大多数是由磷酸、***和铬酐等组成的酸性溶液,氧化性强,容易在阳极表面生成氧化膜,同时又容易在溶液中溶解,这种成膜与溶解的i过程使表面得到整:平与光亮。为了更好的获得质量的效果,有时需要添加其他的物质,如有机溶剂、黏稠剂、有机酸或缓蚀剂等。但有些物质可能会引起燃烧,或对人体有害、增加环境污染,增大治理废水的难度,从而间接加大生产成本。因此,在选择溶液配方时,必须慎重加以综合考虑,选择合理的组分配方。河南中性抛光液介绍

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