临沂硅抛光液
蓝宝石研磨液
蓝宝石研磨液（又称为蓝宝石抛光液）是用于在蓝宝石衬底的研磨和减薄的研磨液。 蓝宝石研磨液由质量聚晶金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成。
蓝宝石研磨液利用聚晶金刚石的特性，在研磨抛光过程中保持高切削效率的同时不易对工件产生划伤。可以应用在蓝宝石衬底的研磨和减薄、光学晶体、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷和合金、磁头、硬盘、芯片等领域的研磨和抛光。
蓝宝石研磨液在蓝宝石衬底方面的应用：
1. 外延片生产前衬底的双面研磨：多用蓝宝石研磨液研磨一道或多道，根据**终蓝宝石衬底研磨要求用6um、3um、1um不等。
2. LED芯片背面减薄 为解决蓝宝石的散热问题，需要将蓝宝石衬底的厚度减薄，从450nm左右减至100nm左右。主要有两步：先在横向减薄机上，用50-70um的砂轮研磨磨去300um左右的厚度；再用抛光机（秀和、NTS、WEC等）针对不同的研磨盘（锡/铜盘），采用合适的蓝宝石研磨液（水/油性）对芯片背面抛光，从150nm减至100nm左右。 本公司销售的纳米抛光液应用范围：氧化铝陶瓷、C基板、封装材料、***、高纯坩埚、绕线轴、轰击靶、炉管。临沂硅抛光液
硫系化合物相变材料化学机械抛光的纳米抛光液及其应用:一种用于硫系化合物相变薄膜材料GexSbyTe(1-x-y)化学机械抛光(CMP)的纳米抛光液及该化学机械抛光液在制备纳电子器件相变存储器中的应用。该CMP纳米抛光液包含有氧化剂、螯合剂、pH调节剂、纳米研磨料、抗蚀剂、表面活性剂及溶剂等。该抛光液损伤少、易清洗、不腐蚀设备、不污染环境,主要用于制造相变存储器关键材料GexSbyTe(1-x-y)的CMP。利用上述抛光液采用化学机械抛光方法去除多余的相变薄膜材料GexSbyTe(1-x-y)制备纳电子器件相变存储器,方法简单易行。广东基板抛光液规格本公司销售的氧化硅抛光液高纯度(Cu2+含量小于50 ppb)，有效减小对电子类产品的沾污。
蓝宝石抛光液
蓝宝石抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。 蓝宝石抛光液主要用于蓝宝石衬底的抛光。还可***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。
蓝宝石抛光液的特点：
1.高抛光速率，利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的。
2.高纯度（Cu含量小于50 ppb），有效减小对电子类产品的沾污。
3.高平坦度加工，蓝宝石抛光液是利用SiO2的胶体粒子进行抛光，不会对加工件造成物理损伤，达到高平坦化加工。 蓝宝石抛光液根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。
纳米氧化铈水分散液、纳米抛光液
本品外观为白色液体，纳米粒子平均粒径为20nm，氧化铈质量分数不低于30%，分散介质为去离子水，pH在9-10，0.5%-1%的悬浮稳定剂。生产流程不引入金属离子。
1）精密仪器抛光 本品不含碱金属离子，粒径小，粘度很低，为晶体硅、LED、高精密玻璃等器件的抛光需求而研发生产。不含有害成分，除氧化铈和水外，悬浮稳定剂为环保成分不会对环境和人体带来间接危害。
2）防紫外线 添加于特种涂料、遮阳伞、玻璃等便可制得防紫外线的特种产品，用于塑料中更是可以起到防老化的效果。汽车用玻璃都添加了纳米氧化铈用来防紫外线和隔热，**CN01804833.1更是介绍了氧化铈反射紫外线的多层涂层制作方法。
3）催化剂 在催化剂中加入氧化铈可明显减少贵金属用量并改善催化性能，使催化器的价格大幅下降。汽车尾气净化三效催化剂中的作用是降低CO转化温度、提高H2O和NOx转化N2和O2的效率。氧化铈还能与纳米氧化钛制成光催化剂，提高光能利用率。 非结晶***抛光液具有弱碱性，经过抛光方法与外表形成反应层，柔软的***去除反应层，可得到高质量的外表。
氧化铝抛光液作为**终抛光液，是为了去除样品表面肉眼不可见的表面变形层。尤其是使用高倍物镜、偏振光、微分干涉或EBSD 技术，来检测、评定样品时，去除这种微小变形是必需的。
当采用含有溶胶氧化铝的MasterPrep氧化铝抛光液，可通过纯粹的机械抛光来***地去除材料，达到优异的表面处理效果。而如果选用其他种类的**终抛光液，比如具有弱碱性的***抛光液，那就要通过化学-机械的抛光方法与材料表面形成反应层，柔软的***去除反应层，也可得到高质量的表面，相比多了化学抛光过程。因此在实际应用中，常规情况选择氧化铝抛光液是十分普遍的。 本公司销售的纳米抛光液应用范围：化妆品填料。临沂硅抛光液
碳化硅抛光液是以超细碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。临沂硅抛光液
1. LED行业 目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石，在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度极高，普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用“软磨硬”的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展，聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。
2.半导体行业 CMP技术还***的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展，对抛光技术提出了新的要求，传统的抛光技术（如：基于淀积技术的选择淀积、溅射等）虽然也可以提供“光滑”的表面，但却都是局部平面化技术，不能做到全局平面化，而化学机械抛光技术解决了这个问题，它是目前***的可以在整个硅圆晶片上***平坦化的工艺技术。 临沂硅抛光液
苏州豪麦瑞材料科技有限公司主要经营范围是化工，拥有一支专业技术团队和良好的市场口碑。公司业务分为陶瓷研磨球，碳化硅，陶瓷精加工，抛光液等，目前不断进行创新和服务改进，为客户提供良好的产品和服务。公司注重以质量为中心，以服务为理念，秉持诚信为本的理念，打造化工良好品牌。豪麦瑞材料科技凭借创新的产品、专业的服务、众多的成功案例积累起来的声誉和口碑，让企业发展再上新高。