山东中性抛光液厂商

时间:2020年12月09日 来源:

纳米级抛光液制备方法:本发明属于研磨料技术领域,由纳米级金刚石粉、非离子型分散稳定剂、抗静电剂、净洗剂、和C9以下轻质白油或石脑油组成,其制备方法为将纳米金刚石机械研磨成粉体,烘干;加入分散稳定剂,加热混合使粉体润湿;加入白油或石脑油,抗静电剂,净洗剂,以及适量pH值调节剂,并不断搅拌,将混合物分散成悬浮液。本发明将产品的表面抛光质量提高到亚纳米量级,以适应于计算机磁头、光学器件和陶瓷等高精度表面研磨和抛光之用。抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂。山东中性抛光液厂商

氧化铈抛光液

1、产品名称 稀土抛光液 

2、产品型号  hnys-ceria-1 

3、用途  用于手机玻璃、精密光学玻璃抛光 

4、技术指标  

化学成分       含量 

稀土抛光粉   30-40% 

去离子水      60-70% 

其他成分      ≤3% 

化学或物理指标     数据 

D50 0.4-0.6µm  D90 ≤1.5µm 

比重                 ≥1.20g/cm3 

pH值                8.0-9.5 

颜色                白色  

备注:以上参数可根据用户要求适当调整。 

5、包装规格  20公斤/桶、50公斤/桶 6、注意事项  使用前请摇匀或搅拌均匀;抛光前可加水稀释1-2倍后再使用,具体稀释比例根据用户现场工艺与设备自行确定。 山东中性抛光液厂商本公司销售的纳米抛光液应用范围:透明陶瓷:高压钠灯灯管、EP-ROM窗口。

铝合金抛光液  铝材镜面抛光液是在三酸抛光基础上发展起来的,是三酸抛光的换代产品。它保留了工序简单,能形成反光镜面等三酸抛光的诸多优点,同时,也克服流痕、黄等致命弱点,是一项难得的技术突破,特点如下:  

1、可任意滴流,滴干为止。由于三酸抛光槽液允许滴流的时间不能超过30秒,大量抛光液(400-600kg/T)被带进水洗槽,造成巨大的槽液损失,还需700-800公斤片碱处理废水!此外,如此短的滴流时间,稍不留心铝合金表面就会有流痕,造成废品,使三酸抛光成品率不足70%。本品添加缓蚀剂使流痕问题得到彻底解决。

2、无黄溢出,硝酸的分解被有效***,抛光亮度稳定。

3、自动***抛光灰,提高抛光质量。

4、特殊方法浓缩槽液,含水量降低,亮度大幅提高。

    抛光液锗抛光液集成电路多次铜布线抛光液集成电路阻挡层抛光液应用,在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度极高,普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后,表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用"软磨硬"的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展,聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。2.半导体行业CMP技术还***的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展,对抛光技术提出了新的要求,传统的抛光技术(如:基于淀积技术的选择淀积、溅射等)虽然也可以提供"光滑"的表面,但却都是局部平面化技术,不能做到全局平面化,而化学机械抛光技术解决了这个问题,它是目前***的可以在整个硅圆晶片上***平坦化的工艺技术。Al2O3抛光液一次完成蓝宝石、碳化硅晶片的研磨和抛光,**进步抛光功率。

1. LED行业  目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石,在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度极高,普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后,表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用“软磨硬”的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展,聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。 

2.半导体行业  CMP技术还***的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展,对抛光技术提出了新的要求,传统的抛光技术(如:基于淀积技术的选择淀积、溅射等)虽然也可以提供“光滑”的表面,但却都是局部平面化技术,不能做到全局平面化,而化学机械抛光技术解决了这个问题,它是目前***的可以在整个硅圆晶片上***平坦化的工艺技术。 本公司销售的纳米抛光液应用范围:化妆品填料。硅抛光液生产工艺

抛光液具有性能稳定、***,对环境无污染等优点。山东中性抛光液厂商

氧化铝抛光液含有溶胶氧化铝,可经过朴实的机械抛光来***地去除资料,达到优异的外表处理效果。而非结晶***抛光液,具有弱碱性,经过化学-机械的抛光方法与资料外表形成反应层,柔软的***去除反应层,可得到高质量的外表。 因而,不同类型的终究抛光液采用不同的抛光机制。不同的资料类型决议着是挑选氧化铝抛光液仍是挑选氧化硅抛光液。

用氧化铝抛光液朴实机械抛光可使样品外表平整,但是却无法确保铜不发生,因而氧化铝抛光液**适合涂层丈量和边界层分析。用氧化硅抛光液,经过化学-机械抛光可在焊料上发生腐蚀,还有轻微的抛光浮凸,但却不会损伤样品,因而氧化硅抛光液**适合铜的微观**分析和EBSD了。


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