临沂进口抛光液生产工艺
纳米级抛光液制备方法:本发明属于研磨料技术领域,由纳米级金刚石粉、非离子型分散稳定剂、抗静电剂、净洗剂、和C9以下轻质白油或石脑油组成,其制备方法为将纳米金刚石机械研磨成粉体,烘干;加入分散稳定剂,加热混合使粉体润湿;加入白油或石脑油,抗静电剂,净洗剂,以及适量pH值调节剂,并不断搅拌,将混合物分散成悬浮液。本发明将产品的表面抛光质量提高到亚纳米量级,以适应于计算机磁头、光学器件和陶瓷等高精度表面研磨和抛光之用。抛光液具有良好的去油污,防锈,清洗和增光性能,并能使金属制品显露出真实的金属光泽。临沂进口抛光液生产工艺
纳米抛光液应用范围:
1、 透明陶瓷:高压钠灯灯管、EP-ROM窗口。
2、 化妆品填料。
3、 单晶、红宝石、蓝宝石、白宝石、钇铝石榴石。
4、 **度氧化铝陶瓷、C基板、封装材料、***、高纯坩埚、绕线轴、轰击靶、炉管。
5、 精密抛光材料、玻璃制品、金属制品、半导体材料、塑料、磁带、打磨带。
6、 涂料、橡胶、塑料耐磨增强材料、高级耐水材料。
7、 气相沉积材料、荧光材料、特种玻璃、复合材料和树脂材料。
8、 催化剂、催化载体、分析试剂。
9、 汽车表面漆层、宇航飞机机翼前缘。 广州研磨抛光用抛光液性能碳化硅抛光液是以超细碳化硅微粉为磨料的抛光液,主要成分是微米或亚微米级的磨料。
二氧化硅抛光液用特选的纳米级SiO2作为磨料。具有***、无腐蚀、不易变质等特点。在抛光中根据客户产品的需要可以优化不同配比,使加工出来的工件表面光亮美观、色泽鲜艳,防止工件的腐蚀,提高工件表面的亮泽,达到比较好使用效果。产品分别依客户和产品对应**名称。
应用领域:
1、金属类材料:如不锈钢、铝合金、锌件抛光
2、LED蓝宝石衬底,晶体、宝石件抛光
3、光学镜片、光学玻璃、陶瓷、石英件抛光
4、磁头、硬盘件抛光
5、光纤以及光伏抛光
抛光液锗抛光液集成电路多次铜布线抛光液集成电路阻挡层抛光液应用,在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度极高,普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后,表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用"软磨硬"的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展,聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。2.半导体行业CMP技术还***的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展,对抛光技术提出了新的要求,传统的抛光技术(如:基于淀积技术的选择淀积、溅射等)虽然也可以提供"光滑"的表面,但却都是局部平面化技术,不能做到全局平面化,而化学机械抛光技术解决了这个问题,它是目前***的可以在整个硅圆晶片上***平坦化的工艺技术。氧化铝抛光液朴实机械抛光可使样品外表平整,但是却无法确保铜不发生,因而适合涂层丈量和边界层分析。
氧化铝抛光液的酸碱度就是抛光液的pH值,当抛光液的pH值为9.6时,抛光液的机械作用远大于化学作用,去除速率比较大,导致抛光后抛光片表面产生高损伤层,粗糙度比较大。
当抛光液的pH值增大为10.84~11.34时,机械作用和化学作用达到一种对等状态时,此时化学作用的均匀性好,使得表面张力小,质量处理的一致性好,可以得到良好的表面抛光效果。
当pH值大于11.67时,SiO2水溶胶在强碱的作用下,生成易溶于水的硅酸氨,使得硅溶胶中的SiO2颗粒不能起到磨削作用,变成透明的液体,此时机械作用基本失效,抛光以化学作用为主,表面蚀坑增多,使得表面粗糙度重新增加。 本公司销售的氧化硅抛光液分散性好、不结晶 。临沂进口抛光液生产工艺
本公司的纳米抛光液适合手机外壳抛光,汽车表面抛光,高级不锈钢外壳抛光。临沂进口抛光液生产工艺
依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等,对硅单晶片化学机械抛光(CMP)机理、动力学控制过程和影响因素研究标明,化学机械抛光是一个复杂的多相反应,它存在着两个动力学过程: (1)抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。 (2)抛光表面反应物脱离硅单晶表面,即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。 硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程,要获得质量好的抛光片,必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用,则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用,则表面产生高损伤层。临沂进口抛光液生产工艺
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