浙江物理抛光液用途

时间:2021年01月01日 来源:

玻璃抛光液简介  

玻璃抛光液用于抛光蒙砂玻璃与喷砂玻璃,以加深玻璃的无手印效果,手感光滑,颗粒感可以随意由操作时间而调整,无手印效果明显,可以加深无手印的效果,适用于生产各种移门,抛光后的玻璃表面光滑但颗粒感强.抛光工艺简单易操作。它适用于各类超硬玻璃,例如,水晶工艺品玻璃,高铅玻璃,高硼玻璃,微晶玻璃,光学石英玻璃等等,这类玻璃的特点是化学稳定性好,硬度很高,用普通抛光液进行处理的时候费时费力,而且很容易造成缺点,而玻璃抛光液DF-808由于添加了有机促进剂,抛光时间很短,一般在5分钟内即可完成,抛光后的玻璃明亮清透,不留瑕疵。玻璃抛光液是东莞澳达化工专为手机表面而研发的其操作简便,可视污渍的多少只需将玻璃抛光液用超声清洗、自动浸泡或手洗即可彻底清洁手机表面的各种污渍且不伤手机。   玻璃抛光液具有抛光速度快、使用寿命长、良好的悬浮性、不沾附、能适合于各种材料的抛光,适合于抛光高精密玻璃,能有效解决材质划伤和抛光粉堆积造成的表面斑点现象。 本公司销售的纳米抛光液应用范围:透明陶瓷:高压钠灯灯管、EP-ROM窗口。浙江物理抛光液用途

氧化铝抛光液是由多种化工溶液配制而成的溶液,它在抛光工艺中有重要的地位。

合理选择抛光液,能使加工出来的工件表面光亮美观,色泽鲜艳,光亮夺目,还可以防止工件的锈蚀,保持与提高工件表面的光泽,起到清洁工件与磨具的作用。去除油污,软化工件表面以加速磨消,减少磨具对工件的冲击,改善工件条件。它具有***,无腐蚀,不易变质等性能。

抛光液的种类很多,应根据加工条件来选择。在光整效率,工作的研磨质量,抛光的光洁度等方面。抛光液都显示出其独特的效果。


浙江基板抛光液价格查询金刚石 研磨液包括单晶、多晶和纳米。  该产品适合硬质材料的抛光。

抛光液主要成分:氧化铬、刚玉、铁红、长石粉等材料!根据不同基体成分和要求制成不同的细度和品种。   液体抛光蜡也跟东展新博抛光蜡类似!   加工工序也分4种:   粗抛光   中研磨   中抛光   精细抛光。

液体抛光蜡优点 

1、增加生产量,操作人员不再需要中断抛光工作,可以自动的控制抛光液的喷涂,   

2、节省操作时间,提高产能。   

3、节省清洗时间,抛光液是水性的配方, 抛光后工程的清洗工序更容易,可以节省的清洗时间  

4、抛光轮寿命增加,喷涂液体研磨剂对研磨轮之轮缘表面温度有冷却作用 ,  

5、**减低 研磨轮的损耗,从而增加研磨轮的寿命。   

6、增加产品的稳定性能,避免了人手操作的不确定性。

氧化硅抛光液经过严格的粒径控制和专业的加工工艺。  该产品抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。


产品特点:  

1.分散性好、不结晶 。 

2.粒径分布***:5-100nm。  

3.高纯度(Cu2+含量小于50 ppb),有效减小对电子类产品的沾污。  

4.经特殊工艺合成的化学机械抛光液,纳米颗粒呈球形,单分散,大小均匀,粒径分布窄,可获得高质量的抛光精度。  

5.适合与各种抛光垫、合成材料配合抛光使用。


使用方法:  

1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。  

2.稀释后,粗抛时调节PH至11左右,精抛时调节PH至9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。 

3.循环抛光可以用原液。



本公司的纳米抛光液适合高级首饰品抛光以及做抛光蜡原料等。

多晶金刚石抛光液  

多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分,配合**散性配方,可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。

主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。  

氧化硅抛光液(CMP抛光液)  

CMP抛光液是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。 ***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。   

氧化铈抛光液  

氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。  适用于高精密光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。  

氧化铝和碳化硅抛光液  

是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液,主要成分是微米或亚微米级的磨料。 主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。 本公司销售的氧化硅抛光液纳米颗粒呈球形,单分散,大小均匀,粒径分布窄,可获得高质量的抛光精度。浙江物理抛光液用途

本公司销售的纳米抛光液应用范围:化妆品填料。浙江物理抛光液用途

蓝宝石研磨液利用聚晶金刚石的特性,在研磨抛光过程中保持高切削效率的同时不易对工件产生划伤。可以应用在蓝宝石衬底的研磨和减薄、光学晶体、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷和合金、磁头、硬盘、芯片等领域的研磨和抛光。

蓝宝石研磨液在蓝宝石衬底方面的应用:

1. 外延片生产前衬底的双面研磨:多用蓝宝石研磨液研磨一道或多道,根据**终蓝宝石衬底研磨要求用6um、3um、1um不等。

2. LED芯片背面减薄

为解决蓝宝石的散热问题,需要将蓝宝石衬底的厚度减薄,从450nm左右减至100nm左右。主要有两步:先在横向减薄机上,用50-70um的砂轮研磨磨去300um左右的厚度;再用抛光机(秀和、NTS、WEC等)针对不同的研磨盘(锡/铜盘),采用合适的蓝宝石研磨液(水/油性)对芯片背面抛光,从150nm减至100nm左右。


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