中性抛光液规格
化学机械抛光液
1、化学机械抛光液概念 化学机械抛光液是在利用化学机械抛光技术对半导体材料进行加工过程中的一种研磨液体,由于抛光液是CMP的关键要素之一,它的性能直接影响抛 光后表面的质量,因此它也成为半导体制造中的重要的、必不缺少的辅助材料。
2、化学机械抛光液的组成 化学机械抛光液的组成一般包括一般由超细固体粒子研磨剂(如纳米SiO2、Al2O3粒子等)、表面活性剂、稳定剂、氧化剂等。固体粒子提供研磨作用,化学氧化剂提供腐蚀溶解作用,由于SiO2粒子去除率比较高,得到的表面质量比较好,因此在硅片抛光加工中主要采用SiO2抛光液,
3、化学机械抛光液的分类 抛光工艺中有粗抛光和精抛光之分,故有粗抛光液和精抛光液品种之分。
4、CMP过程中对抛光液性能的要求 抛光液的浓度、磨粒的种类、大小、形状及浓度、抛光液的粘度、pH值、流速、流动途径对去除速度都有影响。 Al2O3抛光液一次完成蓝宝石、碳化硅晶片的研磨和抛光,**进步抛光功率。中性抛光液规格
蓝宝石抛光液
蓝宝石抛光液是以高纯度硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。 蓝宝石抛光液主要用于蓝宝石衬底的抛光。还可***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。
蓝宝石抛光液的特点:
1.高抛光速率,利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的。
2.高纯度(Cu含量小于50 ppb),有效减小对电子类产品的沾污。
3.高平坦度加工,蓝宝石抛光液是利用SiO2的胶体粒子进行抛光,不会对加工件造成物理损伤,达到高平坦化加工。 蓝宝石抛光液根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。 广东研磨抛光用抛光液介绍用氧化硅抛光液,经过化学-机械抛光可在焊料上发生腐蚀,还有轻微的抛光浮凸,但却不会损伤样品。
铝合金抛光液 铝材镜面抛光液是在三酸抛光基础上发展起来的,是三酸抛光的换代产品。它保留了工序简单,能形成反光镜面等三酸抛光的诸多优点,同时,也克服流痕、黄等致命弱点,是一项难得的技术突破,特点如下:
1、可任意滴流,滴干为止。由于三酸抛光槽液允许滴流的时间不能超过30秒,大量抛光液(400-600kg/T)被带进水洗槽,造成巨大的槽液损失,还需700-800公斤片碱处理废水!此外,如此短的滴流时间,稍不留心铝合金表面就会有流痕,造成废品,使三酸抛光成品率不足70%。本品添加缓蚀剂使流痕问题得到彻底解决。
2、无黄溢出,硝酸的分解被有效***,抛光亮度稳定。
3、自动***抛光灰,提高抛光质量。
4、特殊方法浓缩槽液,含水量降低,亮度大幅提高。
高介电材料钛酸锶钡化学机械抛光用的纳米抛光液:一种用于半导体器件中高介电常数介电材料钛酸锶钡(BaxSr1-xTiO3,BST)化学机械抛光(CMP)的纳米抛光液。该CMP纳米抛光液包含有纳米研磨料、螯合剂、pH调节剂、表面活性剂、消泡剂、杀菌剂及溶剂等。该抛光液损伤少、易清洗、不腐蚀设备、不污染环境,主要用于新一代高密度存储器(DRAM)电容器介电材料及CMOS场效应管的栅介质——高介电常数介电材料钛酸锶钡的全局平坦化。利用上述纳米抛光液采用化学机械抛光方法平坦化高介电常数介电材料钛酸锶钡,抛光后表面的粗糙度降至0.8nm以下,抛光速率达200~300nm/min;抛光后表面全局平坦度高,损伤较少,是制备超高密度动态存储器(DRAM)及CMOS场效应管时高介电材料平坦化的一***抛光液。碳化硅抛光液是以超细碳化硅微粉为磨料的抛光液,主要成分是微米或亚微米级的磨料。
硫系化合物相变材料化学机械抛光的纳米抛光液及其应用:一种用于硫系化合物相变薄膜材料GexSbyTe(1-x-y)化学机械抛光(CMP)的纳米抛光液及该化学机械抛光液在制备纳电子器件相变存储器中的应用。该CMP纳米抛光液包含有氧化剂、螯合剂、pH调节剂、纳米研磨料、抗蚀剂、表面活性剂及溶剂等。该抛光液损伤少、易清洗、不腐蚀设备、不污染环境,主要用于制造相变存储器关键材料GexSbyTe(1-x-y)的CMP。利用上述抛光液采用化学机械抛光方法去除多余的相变薄膜材料GexSbyTe(1-x-y)制备纳电子器件相变存储器,方法简单易行。本公司的纳米抛光液适合普通玻璃抛光,工艺玻璃抛光。广东研磨抛光用抛光液介绍
本公司销售的氧化硅抛光液分散性好、不结晶 。中性抛光液规格
近年来跟着LED工业的开展、宝石衬底需求量的增大,氧化铝抛光液凭仗较高的抛光速率在蓝宝石抛光液中有很好的运用远景。但是氧化铝抛光液在抛光进程中存在涣散安稳性差、抛光进程简单呈现凝聚现象使抛光面呈现划痕的问题。有许多研讨者对进步氧化铝抛光液安稳性进行了研讨。
抛光液对的影响。化学机械抛光液中的化学成分,如氨、酸等0成分对和人体的很大。为此,在进一步研讨抛光液制备工艺的一起,抛光液的循环利用技术也应进一步完善,做到经济开展与相协调。 中性抛光液规格
苏州豪麦瑞材料科技有限公司于2014-04-24成立,注册资本50-100万元元,现有专业技术人员5~10人人,各种专业人员齐备。HOMRAY是苏州豪麦瑞材料科技有限公司的主营品牌,是专业的苏州豪麦瑞材料科技有限公司(Homray Material Company)成立于2014年,是由一群在半导体行业从业多年的专业团队所组成,专注于半导体技术和资源的发展与整合,现以进口碳化硅晶圆,供应切割、研磨及抛光等相关制程的材料与加工设备,氧化铝研磨球,氧化锆研磨球,陶瓷研磨球,陶瓷精加工,抛光液。公司,拥有自己**的技术体系。公司以用心服务为**价值,希望通过我们的专业水平和不懈努力,将苏州豪麦瑞材料科技有限公司(Homray Material Company)成立于2014年,是由一群在半导体行业从业多年的专业团队所组成,专注于半导体技术和资源的发展与整合,现以进口碳化硅晶圆,供应切割、研磨及抛光等相关制程的材料与加工设备,氧化铝研磨球,氧化锆研磨球,陶瓷研磨球,陶瓷精加工,抛光液。等业务进行到底。苏州豪麦瑞材料科技有限公司主营业务涵盖[ "陶瓷研磨球", "碳化硅", "陶瓷精加工", "抛光液" ],坚持“质量***、质量服务、顾客满意”的质量方针,赢得广大客户的支持和信赖。
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